一·桌面式小型真空熔煉爐微型燒結(jié)爐高頻爐設(shè)備用途
主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。本設(shè)備采用溫控儀表控制電源加熱，測溫采用鉑銠熱電偶，溫度更加精確。
二·桌面式小型真空熔煉爐微型燒結(jié)爐高頻爐 感應(yīng)爐設(shè)備參數(shù)
1· 坩堝容量：50~200g（更換不同線圈實(shí)現(xiàn)不同容量）
2· 冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-2Pa(機(jī)械泵+羅茨泵）6.67×10E-3Pa(機(jī)械泵+擴(kuò)散泵）5.0×10E-4Pa(機(jī)械泵+分子泵）
3· 設(shè)備總功率：10Kw；電源電壓：3相380V,50Hz
4· 外形尺寸：1250×1150×1500mm(L×W×H)
5· 設(shè)備總重量：400Kg
